+ 反應(yīng)氣體離子束刻蝕RIBE
+ 化學(xué)輔助離子束刻蝕CAIBE
+ 良好的一致性,最大的靈活性, 應(yīng)用范圍廣
+ 加工重復(fù)性好, 運(yùn)行成本低
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離子束刻蝕系統(tǒng)

  • RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備
  • RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備
  • RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備
  • RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備
  • RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備
  • RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備
RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備

RIBE215/450 ISA200離子刻蝕設(shè)備

  • + 適用于惰性氣體離子束刻蝕IBE
    + 反應(yīng)氣體離子束刻蝕RIBE
    + 化學(xué)輔助離子束刻蝕CAIBE
    + 良好的一致性,最大的靈活性, 應(yīng)用范圍廣
    + 加工重復(fù)性好, 運(yùn)行成本低

設(shè)備型號(hào)

R-IBE215

R-IBE450

ISA200

加工范圍

215mm

450mm

200mm

工件厚度

20mm

50mm

50mm

工件重量

最大2Kg

最大50Kg

最大2Kg

接觸角

0-90°

0-90°

0-180°

旋轉(zhuǎn)速度

0-10RPM

加工面形

凸面,凹面,平面,球面,非球面,自由曲面

加載過(guò)渡艙

提供加工過(guò)渡艙裝置,加載時(shí)間<2分鐘

軸數(shù)

4(X,Y,A,B)

5(X,Y,Z,A,B)

3(X,A,B)

行程

X>500mm

Y=300mm

A+/-90°

B=360°

X=1100mm

Y=300mm

Z=300mm

A=0-90°

B=360°

X=300mm

A=0-120°

B=360°

詳細(xì)技術(shù)參數(shù)請(qǐng)?jiān)谙螺d中心下載技術(shù)資料